Linda Péroux
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Microfabricated alkali vapor cells are central to the development of compact and low-power atomic devices such as atomic clocks and optically pumped magnetometers (OPMs). However, conventional microfabrication techniques, particularly those relying on anodic bonding for final sealing, impose high temperatures that are incompatible with the integration of antirelaxation coatings.
In this work, we present a novel filling and sealing method for microfabricated vapor cells that leverages locally-sealed microchannels etched into the glass substrates. The heat induced by the sealing is local, and paves the way for post-fabrication deposition of temperature-sensitive antirelaxation coatings such as paraffin. It opens the perspective of significantly reducing the operating temperature of OPMs, a key factor in eliminating the need for thermal isolation, thereby allowing closer proximity to the signal source and facilitating integration into wearable and portable platforms.
Linda Péroux
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Abdelkrim Talbi
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Andrei Mursa
(Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST , Besançon, France)
Arthur Dewilde
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Aurélien Mazzamurro
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Jean-François Clément
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Jérémy Bonhomme
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Nicolas Passilly
(Université Marie et Louis Pasteur, CNRS, Institut FEMTO-ST , Besançon, France)
Philippe Pernod
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Ravinder Chutani
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
Vincent Maurice
(Université de Lille, CNRS, Centrale Lille, Université Polytechnique Hauts-de-France, UMR 8520 - IEMN - Institut d'Electronique de Microélectronique et de Nanotechnologie , Lille, France)
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